全像術最早發明於1948年，但一直到1960年代雷射發明後，才使得全像術得以普遍地應用。其原理主要是記錄兩道同調性(coherent)高的光干涉條紋於感光底片上。此底片不僅記錄了光強度，尚載有相位的資訊。故只要有適當的重建光，便可看到與實物完全一樣的立體全像。

　　發明至今逾50年的演變，商業化的全像應用隨處可見。如防偽雷射材料、雷射商標，乃至於產品之包裝等。更精密的如微小全像光學元件、全像抬頭顯示器、大型投影電視系統中之全像投影幕等，都是極具發展潛力的產品，亦是全像業者所極思努力突破的目標。

　　近年來全球全像產品呈穩定而快速地成長，國內廠商動作亦十分積極，銷售屢傳佳績。值得吾人對此產業作一番審慎的研究評估。

(光電協進會提供)