半导体先进制程发展扩大EUV市场需求，ASML可望持续受惠
拓墣观点： 在先进制程奈米节点持续微缩下，光刻机是重要关键设备。12吋晶圆主要光刻机为ArF immersion机台，可覆盖45nm一路往下到7nm节点的使用范围，其雷射光波长最小微縮到193nm；針對7nm節點以下的製程，EUV(Extreme Ultra-Violet)[...]
各NB品牌的北美占有率与市场依存度(以出货量计)
在中国输往美国尚未被课予25%惩罚性关税的3,200亿美元商品中，涵盖大量数位消费电子商品，其中包含与大尺寸面板息息相关的两大应用－NB与电视，两者在3,200亿美元贸易额比重分别为11%与5%。 [...]
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