半导体先进制程发展扩大EUV市场需求，ASML可望持续受惠

拓墣观点： 在先进制程奈米节点持续微缩下，光刻机是重要关键设备。12吋晶圆主要光刻机为ArF immersion机台，可覆盖45nm一路往下到7nm节点的使用范围，其雷射光波长最小微縮到193nm；針對7nm節點以下的製程，EUV(Extreme Ultra-Violet)[...]

• 开源LLM将分化高中低阶伺服器市场

• 中国车厂实践「智驾平权」的路径分析

• 智慧城市与建筑净零：政策与技术的双轨推进

• 美国对等关税下的全球MNT面板市场分析

• 生成式AI引领智慧制造转型：应用实践、挑战剖析与国际厂商动态

各NB品牌的北美占有率与市场依存度(以出货量计)

在中国输往美国尚未被课予25%惩罚性关税的3,200亿美元商品中，涵盖大量数位消费电子商品，其中包含与大尺寸面板息息相关的两大应用－NB与电视，两者在3,200亿美元贸易额比重分别为11%与5%。 [...]